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石墨舟状态对镀膜均匀性的影响

将新石墨舟及使用超过3 年的旧石墨舟饱和后进行PECVD镀膜，片间均匀性差异如图7 所示。由图7 可知，新石墨舟表面平整度好，石墨舟片导电性一致，薄膜分子可以均匀地沉积在硅片表面，片间均匀性更优。图8 为新石墨舟在使用周期内的片间均匀性变化趋势图。

   新石墨舟饱和后在沉积时仍有部分等离子体在石墨舟片上沉积，运行次数小于30 次时，随着运行次数的增加，石墨舟片上沉积的等离子体减少，片间均匀性越佳。运行次数大于30 次后，随着使用次数的增加，石墨舟片内壁与硅片接触边缘处薄膜变厚，电场反而变强，发生更多的等离子沉积，易出现不同程度的边缘发白现象，导致片间均匀性逐次变差。

石金科技生产的PECVD石墨舟作为镀膜最常用的工艺，被广泛用于半导体、太阳能电池片的生产过程中。作为硅片的载体，石墨是最理想的材料，对表面镀膜的均匀性、色差等产生至关重要的作用，要求其有高纯度、耐腐蚀、极好的抗弯强度和良好的导电性能。

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